【作者】 季颖颖； 郭琪； 贺灿飞；
【Author】 JI Yingying;GUO Qi;HE Canfei;School of Urban and Environmental Sciences, Peking University;Peking University-Lincoln Institute Center for Urban Development and Land Policy;
【机构】 北京大学城市与环境学院； 北京大学—林肯研究院城市发展与土地政策研究中心；
【摘要】 FDI(外商直接投资)对内资企业的技术溢出效应是国内外研究的重要话题,但相关文献多为静态研究。本文认为FDI的技术溢出存在时间效应,即FDI对内资企业的技术溢出或挤出效应,随着FDI进入东道国的时间推移而变化。利用2003-2007年中国工业企业数据库,以通信设备、计算机和其他电子设备制造业为例,对城市面板数据建立门槛回归模型,研究FDI技术溢出效应随时间变化的动态过程。结果表明,随着FDI进入东道国的时间推移,技术溢出效应的变化呈扁S曲线:初始,FDI对内资企业表现为明显的挤出效应;3~4年后,逐渐由挤出效应向溢出效应转变;随着时间的进一步推移,溢出效应减缓下降,最终表现为不明显的溢出或挤出效应。此外,对不同所有制的内资企业,FDI技术溢出效应随时间变化的动态过程不同。 更多还原
